这也标志着日本半导体产业复兴的序幕拉开,自从广场协议后日本迫于压力交出半导体市场老大地位后,日本长期在半导体产业的上游布局,在原材料和设备端发力,虽然设备端因为当年忽视湿法刻蚀技术,佳能和尼康被荷兰ASML超越,但在半导体原材料领域日本企业一家独大,特别是在晶圆硅片和光刻胶领域,控制着市场供给。
据日经亚洲12月19日报道,Rapidus成为日本首家获得极紫外(EUV)光刻设备的半导体公司,已经开始在位于北海道正在建设的“IIM-1”芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。12月14日,荷兰供应商ASML生产的极紫外光刻系统(EUV)的第一批部件抵达机场。
国防科技大学计算机学院教授孙永节为您讲述——极紫外光刻机研制究竟有多难■解放军报记者 王握文 通讯员 舒中华●它集世界顶尖技术于一身,是高端芯片制造的关键核心设备●它的研发难度极大,至今世界上还没有一个国家能独立研制阿斯麦公司出品的极紫外光刻机。资料图片“得芯片者得天下。
今年1-6月,我国对外进口芯片总量减少290亿颗,7月份,单月进口总量减少幅度更是达到140亿颗,也就是说,相较于往年,我国的今年上半年芯片进口数量减少了430亿颗,你猜,这是主动减少进口依赖还是被动缩水的?