中国科学院突破全态DUV光源技术，这可太振奋人心了。要知道，在光刻机技术上我们一直面临封锁。以前高端光刻机被国外企业垄断，像荷兰ASML几乎把控着全球高端市场。
现在中科院研发出的固态DUV激光，能发射193nm相干光，这意味着有望将国产半导体工艺推进到3nm。传统的DUV光刻技术依赖氟化氩准分子激光器，而中科院的方案采用全固态方式，体积小、能耗比传统低70%，还环保。虽然固态激光方案大规模应用还存在不确定性，但这一突破已经是巨大的进步，让我们看到国产先进制程崛起的希望。#光刻机自研之路# #极紫外光刻技术# #光刻技术革新#
现在中科院研发出的固态DUV激光，能发射193nm相干光，这意味着有望将国产半导体工艺推进到3nm。传统的DUV光刻技术依赖氟化氩准分子激光器，而中科院的方案采用全固态方式，体积小、能耗比传统低70%，还环保。虽然固态激光方案大规模应用还存在不确定性，但这一突破已经是巨大的进步，让我们看到国产先进制程崛起的希望。#光刻机自研之路# #极紫外光刻技术# #光刻技术革新#