Creo与Proe按等差增长间距排布的方坑尺寸阵列教程-一加一学院

关于阵列想必大家都是了解不过，一加一学院 公众号上也曾经分享过很多案例的阵列教程，当然在众多的Proe/Creo教程书籍上也有非常多的命令讲解，但是仍然有许多小伙伴抓不住阵列的要点，稍有变化就不知如何下手，本篇文章内容将与大家分享一个按等差增长间距的阵列案例教程。具体效果如下图：

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结合上图可以看出蓝色方框在水平方向的排列间距由70→130→190→250整体呈现位等差间距递增的效果，当然当数量较少时可通过直接尺寸约束的方式单独创建，但如果数量较多，故需要寻找其中的规律并通过阵列的方式来创建，下面具体分享创建过程：

STEP 1:拉伸创建基础实体特征，作为蓝色方坑的基础载体（具体尺寸自行定义）

STEP 2:拉伸创建阵列特征的第一个单元（拉伸为曲面，并勾选封闭端）

STEP 3:对上步拉伸曲面特征进行复制-选择性粘贴（平移距离60）

STEP 4:复制上步复制选择性粘贴得到的面组

STEP 5:利用上步复制的面组进行实体化切除材料操作

STEP 6:选择性粘贴/复制面组/实体化等三个特征分组，对组进行尺寸阵列

最终效果如图

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至此本案例的建模过程已全部结束，希望能对正在学习软件的你有所帮助，有时间的朋友可以自行操作练习~欢迎转发分享与更多小伙伴一起交流学习~

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