在工信部推出全新国产DUV深紫外光刻机之后，中企又在EUV极紫外光刻技术上取得了突破，阿斯麦这家光刻机巨头的股价应声暴跌，整个半导体行业的格局似乎正在悄然改变。根据工信部提供的参数，这款 DUV 光刻机分辨率为 65 纳米以下，套刻精度为 8 纳米以下。
美国MSN网站2月19日文章，原题：中国能否成为世界科技领军者？当前，中国大力推动引领世界科技发展。从人工智能和电动汽车到半导体和可再生能源，中国正加力赶超西方。那么，中国有机会成为全球科技领军者吗？中国正在打造下一个人工智能帝国吗？人工智能是中国战略的核心。
