长期以来，我们的很多行业都深受芯片和光刻机的限制，虽然我们已经有了足够强大的芯片设计能力，但芯片的量产一直是个问题，华为芯片就是活生生的例子，麒麟9000芯片已经设计的非常出色了，但限制了华为芯片的代工，导致华为线片严重短缺，说到芯片的量产，就不得不提一下光刻机这款设备。
IT之家 7 月 18 日消息，近日，北方华创科技集团股份有限公司正式发布应用于晶边刻蚀工艺的 12 英寸等离子体刻蚀机 Accura BE，号称实现国产晶边干法刻蚀设备“零”的突破，为我国先进芯片制造量身打造良率提升高效解决方案。
e公司讯，近日，北方华创正式发布新品——12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机Accura LX，该机台主要覆盖逻辑领域多个技术节点中以AIO 、Contact 为代表的关键介质刻蚀制程，并可扩展到存储领域的CMOS 相关制程，适用于Low-K介质及常规介质材料的刻蚀工艺。
半导体设备市场细分品类众多，目前本土半导体设备产业仍处于成长早期，其中刻蚀机作为刻蚀工艺的关键设备，占比晶圆制造设备最高22%的市场份额，略高于光刻机，主要原因是刻蚀机在成熟制程应用更广，虽然精度单机价格相较高端光刻机，但整体规模仍高于光刻机，是晶圆代工中最重要的生产设备之一。
国内刻蚀设备厂商中:北方华创的第一台 8 英寸 ICP 刻蚀机于2005年在客户端上线，其12 英寸刻蚀机已在客户端实现国产替代，截止2020 年 12 月，北方华创 ICP刻蚀机交付突破 1000 腔，标志着国产刻蚀机得到客户广泛认可;
近日，台积电对外宣布，将在2019年第二季度进行5nm制程风险试产，预计2020年量产。与此同时，中微半导体也向“上观新闻”透露了一个重磅消息，其自主研发的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5nm制程生产线。
