众所周知，光刻技术是现代半导体制造的核心，直接决定了芯片的性能、尺寸和成本。不过，近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻以及中国通过激光驱动等离子体技术挑战ASML的新闻，并在业内再次引发了光刻机之争。
