“中国是全世界唯一能独立制造光刻机的国家，可笑的是，这还是在美国风suo下取得的成就”这一登场，可不得了，直接在半导体界投下了一颗震撼弹，不鸣则已，一鸣惊人”，咱中国这一出手，那可真是让全球科技大佬们都坐不住了。
据广州产投、越海集成官微消息，4月16日，由广东微技术工业研究院（广东微技术研发中心有限公司，简称“广东工研院”）组织的“曝光时刻——3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂仪式在广州市增城区广东越海集成技术有限公司举行。
4月16日，国内首台大芯片先进封装专用光刻机在广州市某集成技术有限公司举行交付入厂仪式。该光刻机由广东某科技装备有限公司自主研制，可以为Chiplet和2.5D/3D大芯片的集成制造提供光刻加工工艺，为助力国产人工智能大芯片集各种功能芯片之大成提供了有力的技术支撑。
光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
近日，国内高科技领域又传来了振奋人心的消息，国产首台光刻机即将交付。作为半导体产业不可或缺的核心设备，光刻机的研发和生产一直以来都被国内企业视为重中之重，因此这一官宣消息引发了广泛的关注和期待。光刻机作为半导体芯片制造中的“大脑”，其重要性不言而喻。
2021年，在中国企业未来发展论坛中，北京大学国家发展研究院名誉院长林毅夫先生就引用光刻机的巨头荷兰阿斯迈CEO的话，预测中国将在三年后造出一台EUV光刻机，而今2023年，离林毅夫先生提出的三年之期只剩下不到一年时间，期限已至，我国的光刻机制造进度究竟如何?
前段时间，华为公布了一项光刻机技术相关专利，迅速引起了广泛关注。然而，光刻机涉及的专利非常多，一项专利影响有限，但却反映出大家对国产光刻机的期待。光刻机是芯片制造过程中最核心的设备，也是我们设备最大的短板之一，如果不是国外限制，恐怕水平会更高。
