深圳市新凯来技术有限公司在上海国际半导体展览会的首次亮相，标志着国产半导体设备领域取得重大突破。新凯来在展会上发布“6大类31款设备”，覆盖刻蚀、薄膜沉积、量检测等核心环节，其中:武夷山系列刻蚀设备:支持5纳米制程，突破等离子体控制技术。
