6月28日，荷兰光刻机巨头ASML官网宣布，与比利时微电子研究中心（Imec）签署谅解备忘录，将在下一阶段加强合作，在IMEC开发一个最先进的高数值孔径（High-NA）极紫外光刻试验线。谅解备忘录包括在比利时鲁汶的Imec中试线安装和服务ASML的全套先进光刻和计量设备。
3月11日，ASML和比利时微电子研究中心（Imec）宣布签署新的战略合作伙伴协议，重点关注半导体研究与可持续创新。该协议为期五年，旨在开发推动半导体行业发展的解决方案，并制定以可持续创新为重点的计划。根据声明，双方的研发重点领域将涉及硅光子学、存储器和先进封装等。
7月18日，路透社援引荷兰财经日报（Het Financieele Dagblad）消息称，荷兰半导体设备制造商ASML周二表示，将聘请即将离开飞利浦的100名研究人员。据悉，这些员工来自飞利浦的工程解决方案部门，飞利浦的一位发言人证实此举是该公司重组的一部分。
1974 年，研究人员聚集在飞利浦研究院 NatLab 的 SIRE I 原型周围。在 20 世纪 60 年代和 1970 年代，芯片制造商在内部构建了绝大多数半导体价值链——制造成品微芯片所需的所有步骤。
4月上旬，全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E，该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径，旨在满足未来几年对于尖端技术芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸节点。
21世纪经济报道记者倪雨晴 深圳报道11月14日，光刻机巨头阿斯麦（ASML）在2024年投资者日会议上透露了未来业绩预期，确认其到2030年的年收入将达到约440亿至600亿欧元，毛利率约为56%至60%。对比来看，2023年ASML营收为275.59亿欧元，净利润为78.
（观察者网讯）据彭博社7月14日消息，荷兰光刻机巨头ASML与中国客户合作的能力将面临美荷更严格的管制。知情人士称，荷兰的出口管制新规将禁止ASML在未经政府批准的情况下为受管制设备提供维护、维修和备件支持，美国政府预计也将干预。
4月29日消息，据环球时报旗下账号“哇喔·环球新科技”、观察者网等报道，中国科学院上海光学精密机械研究所林楠研究员带领团队，绕过二氧化碳激光，使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源，已经达到国际领先水平，对中国自主开展EUV光刻有重要意义。
