据媒体报道,上海微电子装备股份有限公司创新技术,在之前90nm的基础上,宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机,虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距,但也标志着国产光刻机的飞跃进步,在逐渐减少与荷兰ASML公司差距。
国产光刻机概念股盘初冲高,新莱应材(300260)涨超9%,珂玛科技(301611)涨超5%,国林科技(300786)、旭光电子(600353)、富创精密跟涨。消息面上,美国政府公布最新半导体对华出口限制,涉十余家知名上市公司。