据媒体报道，上海微电子装备股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机，虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机的飞跃进步，在逐渐减少与荷兰ASML公司差距。
国产光刻机概念股盘初冲高，新莱应材（300260）涨超9%，珂玛科技（301611）涨超5%，国林科技（300786）、旭光电子（600353）、富创精密跟涨。消息面上，美国政府公布最新半导体对华出口限制，涉十余家知名上市公司。
