我国光刻技术进步

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国产电子束光刻技术实现突破：0.6纳米精度打破国际垄断
浙江大学余杭量子研究院成功研发出中国首台商业化电子束光刻机"羲之"，该设备已进入应用测试阶段，标志着中国在半导体制造核心装备领域取得重大突破。这台100千伏电子束光刻机能够实现0.
人工智能学家
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我国自主研发光刻机交付，突破10nm工艺。
我国自主研发的纳米压印光刻机传来好消息。前不久，这套装备已经在国内通过权威验收，外行可能觉得它只是“黑科技”里的冰山一角，不过行业内人都明白，这玩意儿可比电饭锅的技术门槛高出多少层楼。
风云见闻者
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ASML也没有料到！大陆光刻机再次突破，外媒：简直太快了
我们都知道光刻机的重要性，但由于其制造的复杂性，目前全球光刻机市场基本被荷兰ASML垄断。不过，全球多地在研发其他光刻技术路线，希望能打破ASML垄断。
科技强哥说
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