不黑也不吹，目前在光刻机领域，我们确实落后国际顶尖水平太多了。而我们还在ArF阶段，也就是干式DUV光刻机，之后还有浸润式DUV光刻机，还有EUV光刻机，落后好几代，用一些人的话来说，可能是15-20年。
近期国产光刻机领域惊喜连连，8月初璞璘科技国产纳米压印光刻机正式交付（详见：突破！绕开EUV光刻机，国产纳米压印光刻机正式交付，超越日本？）；近日又从杭州传来国产“电子束光刻机”取得重大突破，已进入应用测试阶段。
光刻机之所以备受关注，主要是因为芯片制造根本离不开它，而美方为了阻挠我们芯片产业向高端发展，又不断扩大光刻机对华限制范围，导致我们只能推进国产替代。目前，全球光刻机技术最先进的是荷兰ASML，其高端EUV和先进浸润式DUV被限制对华出口，因此我们只能研发国产光刻机。
光刻机，虽然国产EUV光刻机依然扑朔迷离，但国产纳米压印光刻机率先破土而出，取得重大突破。根据璞璘科技（PRINANO）8月5日官宣：其自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。
