不吹不黑，在光刻机领域，咱们和国际顶尖水平确实差得挺远。ASML的EUV光刻机已经能造2nm芯片，而我们还在ArF干式DUV阶段晃悠——后面还有浸润式DUV、EUV好几代要追，有人估算差距可能有15到20年。EUV光刻机是造7nm以下芯片的刚需，可ASML的EUV死活不卖给我们。
