11月4日消息，根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体采访时指出，2024年将开始生产350nm光刻机，2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机。
导读:光刻机技术加速突破，美专家:ASML的时代正在结束!虽然说一颗小小的芯片看上去只有指甲盖大小，但是在芯片的内部却含有上亿个晶体管线路，想要完成芯片的生产，靠人眼很显然是无法完成的，而光刻机利用极紫外光源等技术就可以轻松的完成芯片的生产;
目前的EUV光刻机，其实已经发展到第三代了。第一代是ASML最开始的光刻机原型，交付了几台给英特尔、台积电们，用于7nm芯片的研发制造，当初的参数什么的，都不是太好。后来升级至NA=0.33的光刻机，也称之为LOW NA EUV。比如大家最熟悉的NXE3400C，采用13.
2021年，在中国企业未来发展论坛中，北京大学国家发展研究院名誉院长林毅夫先生就引用光刻机的巨头荷兰阿斯迈CEO的话，预测中国将在三年后造出一台EUV光刻机，而今2023年，离林毅夫先生提出的三年之期只剩下不到一年时间，期限已至，我国的光刻机制造进度究竟如何?
光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。近期，光刻巨头荷兰半导体设备公司阿斯麦首席执行官Peter Wennink表示，今年将按计划在其下一个产品线中推出首款测试工具。
造出ASML那种光刻机，中国还需要多久，看完算长知识了美国制裁华为的进程依旧在持续，仅仅因为一个光刻机华为的麒麟芯片就成了绝唱。这叫很多中国人愤愤不平但是又无可奈何。有那么一群人对咱们的国家充满信心，认为只要举全国之力我们做任何事情都是可以成功的。理论上讲，确实如此。
2025 年 3 月，三星在韩国华城园区引入首台 ASML 造的 TWINSCAN EXE:5000 ，成为英特尔、台积电之后第三家购入的半导体厂商，且三星决定在未来 DRAM 生产中用该技术，竞争对手 SK 海力士也有此计划。
