全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。子公司宁波冠石半导体量产 55nm/40nm 光掩膜版，并于 2025 年 H1 实现超 700 万元收入。
全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”日前进入应用测试，其精度比肩国际主流设备。这台尖端设备的背后，是一批在细分领域默默攻坚的企业:波长光电与浙江大学共建联合实验室，其掌握的纳米压印和电子束光刻技术，正推动微纳光学元件实现低成本量产。
之前视频整理了半导体设备公司，有朋友希望能够出文字版的，但是内容太多了，今天先把光刻机部分给大家安排上。光刻机可以说是芯片制造的核心设备，也是硬件里面最难攻克的设备。光刻技术水平直接决定了芯片的最小线宽，定义半导体器件的特征尺寸，决定芯片的制程水平和性能水平。
