国产光刻机的自主发展，已成为关乎国家战略安全与科技命脉的必然选择。光刻机关联:参股公司思坦科技联合攻关开发了基于高功率 AlGaN 深紫外 Micro-LED 显示的无掩膜光刻技术，在 Micro-LED 无掩膜光刻领域取得了突破性成果，也标志着半导体行业的制造工艺即将迎来革命性进展。
作为国内获得 ASML 子公司 Cymer 以及日本 GIGAPHOTON 认证的光刻气供应商，其产品纯度高达 99.9999%，在 2025 年第一季度，该企业净利润同比大幅增长 1104.89%，这一增长主要得益于氢气和燃料气销量的提升，并且得到了大基金三期的扶持。
最新消息催化:中国半导体设备市场规模突破500亿美元，国产光刻机市占率提升至30%;光刻机已升级为“芯片制造皇冠明珠”，2025年全球光刻机市场规模突破300亿美元，中国光刻机产业链自主化率提升至40%，成为半导体产业自主可控关键突破口。
