近日,全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm,线宽8nm,专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节,可通过高能电子束在硅基上“手写电路”,无需掩膜版即可灵活修改设计,其精度已比肩国际主流设备。
周一,A股市场上光刻机板块强势拉升,波长光电、茂莱光学等个股大涨,板块整体涨幅为3.35%。在政策支持及国产替代的双轮驱动下,光刻机产业链正迎来黄金发展期。机构分析指出,随着国内晶圆厂扩产及技术突破,千亿级市场空间即将打开,具备核心竞争力的企业将率先受益。
8月14日,全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”进入应用测试的消息引发广泛关注。其工作原理如同用纳米级毛笔在硅基上“手写”电路,彻底改变了传统芯片研发中依赖掩膜版导致的高成本、长周期困境,大幅降低了量子芯片等前沿领域的研发门槛,因此得名于书法家王羲之,堪称递向芯片研发的“纳米神笔”。
国产光刻机的自主发展,已成为关乎国家战略安全与科技命脉的必然选择。光刻机关联:参股公司思坦科技联合攻关开发了基于高功率 AlGaN 深紫外 Micro-LED 显示的无掩膜光刻技术,在 Micro-LED 无掩膜光刻领域取得了突破性成果,也标志着半导体行业的制造工艺即将迎来革命性进展。
最新消息催化:中国半导体设备市场规模突破500亿美元,国产光刻机市占率提升至30%;光刻机已升级为“芯片制造皇冠明珠”,2025年全球光刻机市场规模突破300亿美元,中国光刻机产业链自主化率提升至40%,成为半导体产业自主可控关键突破口。
7月15日早盘,A股整体震荡上行,光模块、光通信、光芯片、电路板、AI算力等概念领涨两市,通信、电子等行业涨幅居前。近期市场情绪持续高涨,资金回流科技赛道,热度较高的科创半导体ETF(588170)早盘小幅上行。
9月17日,光刻机板块强势拉升。根据Wind数据统计,当日光刻机指数(8841237)涨幅为4.24%。其中,行业龙头中芯国际放量上涨近7%,盘中股价创历史新高。板块内多数个股上涨,其中,波长光电“20CM”涨停,福晶科技、奥普光电涨停,苏大维格上涨14.66%,茂莱光学上涨6.