一、核心材料部件及占比根据EUV光刻机供应链数据，主要材料部件占比及技术分布如下：1.光学系统（14%）核心材料：熔融石英（德国Heraeus、Schott）、掺钛石英玻璃（美国康宁、德国贺利氏）。功能：投影物镜由20+高精度镜片组成，用于光路聚焦与像差校正。
据上证报信息，有知情人士透露，z芯国际开始测试由本土公司研发的深紫外(DUV)光刻机，表明我国高端光刻机技术正逐步突破，光刻机热度随之回升。尽管DUV光刻机不是最顶尖的EUV设备，但其在7nm及以上制程芯片中占主导地位，涵盖当前大多车用芯片、物联网芯片与AI处理器的生产需求。
全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”日前进入应用测试，其精度比肩国际主流设备。这台尖端设备的背后，是一批在细分领域默默攻坚的企业:波长光电与浙江大学共建联合实验室，其掌握的纳米压印和电子束光刻技术，正推动微纳光学元件实现低成本量产。
近日，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm，线宽8nm，专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节，可通过高能电子束在硅基上“手写电路”，无需掩膜版即可灵活修改设计，其精度已比肩国际主流设备。
